日刊工業新聞2015年4月15日 記事より引用
兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開発した。従来の原子間力顕微鏡とは異なり、X線で非接触計測できる手法を採用。実際の露光と同じ波長13.5ナノメートル(ナノは10億分の1)のEUV光を利用し、フォトマスク内部の超微細な欠陥を3次元形状で観察できる。


http://www.nikkan.co.jp/news/nkx0720150415eaab.html